Вакуумная напылительная установка магнетронного типа GSEM G20

Назначение: напылительная установка магнетронного типа Ion sputter coater с PLC контролем предназначена для напыления тонкой металлической пленки на непроводящие образцы перед их исследованием в растровом электронном микроскопе (SEM / РЭМ). Нанесенное на поверхность образца тонкое металлическое покрытие позволяет работать с исходно непроводящими образцами в режиме высокого вакуума и получать высококонтрастные изображения с высоким разрешением. Магнетронное напыление особенно востребовано при работе с биологическими образцами

Основные технические характеристики:

• Размер камеры: ø140 × 100 мм
• Максимальные размеры образца: ø50 × 30 мм
• Максимальная загрузка образцов: до 7 при диаметре образцов до 14 мм
• Размер мишени: ø50 мм
• Напыляемые материалы: Au или Pt
• Ионный ток: от 1 до 10 мА (шаг 1 мА)
• Библиотека стандартных покрытий: 10 программ
• Количество мощностных режимов генерации плазмы: уровни от 0 до 9 (шаг 1)
• Время напыления: от 1 до 600 сек (шаг 1 сек)
• Вакуум: 2,0 × 10-1 Торр
• Вакуумный насос: 100 л/мин, роторный
• Максимальный потребляемый ток: 10 А
• Напряжение питания: 220 В, 50 Гц